Fotomaske

Fotomasken bestehen üblicherweise aus hochreinem Quarzglas (248nm Wellenlänge) oder Kalziumfluorid (193nm Wellenlänge) und sind auf einer Seite mit einer dünnen Chromschicht beschichtet. Mittels Elektronenstrahllithografie werden die gewünschten Strukturen erzeugt, indem nicht benötigtes Chrom entfernt wird. Das Chrom reflektiert dann im lithografischen Prozess das UV-Licht und erzeugt durch Schattenwurf die Strukturen im Lack, meist mit einer verkleinernden Darstellung (üblich sind 4:1 oder 5:1 Verkleinerungen). Die fertige Maske erhält meist auf der Seite mit der Chromschicht zusätzlich ein Pellikel aus Nitrozellulose. Dieses soll verhindern, dass Partikel direkt auf die Maske gelangen und somit zu Abbildungsfehlern führen.