Neutronen-Transmutationsdotierung

Neutron Transmutation Doping (NTD) ist ein Verfahren um in Silizium höchst homogene Phosphordotierungen zu erreichen. Dazu wird das Silizium mit thermischen Neutronen beschossen. Es ergibt sich folgende Kernreaktion:

${}^{30}\mathrm {Si} +\mathrm {n} \rightarrow {}^{31}\mathrm {Si} \xrightarrow {\beta ^{-}-\mathrm {Zerfall} } {}^{31}\mathrm {P} +\beta ^{-}+{\bar {\nu }}$

Das stabile Isotop ${}^{30}\mathrm {Si}$ tritt in der Natur mit einem Anteil von 3.1% auf. Daher kann mit der NTD-Methode eine hohe Phosphordotierung von bis zu $10^{20}\mathrm {cm} ^{-3}$ erreicht werden.

Literatur

• Rolf Sauer: Halbleiterphysik: Lehrbuch für Physiker und Ingenieure. Oldenbourg, 2009, ISBN 3-486-58863-X.