Plasma-Immersions-Ionenimplantation
Bei der Plasma Immersions Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur, meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das direkte Einbringen der zu behandelnden Materialien in ein Plasma, daher der Begriff "Immersion". Häufig werden für das Verfahren unterschiedliche synonyme Begriffe oder Abkürzungen verwendet, von denen einige im Folgenden aufgelistet sind.
- Plasma Immersions Ionenimplantation, kurz PIII, P3I oder PI³; Im Englischen spricht man von p-triple-i oder p-i-cube
- Plasma Basierte Ionenimplantation, PBII
- Plasma Ionenimplantation, kurz PII oder PI²
- engl. plasma ion immersion processing, PIIP
- Wenn das Verfahren in Kombination mit einer gleichzeitigen Schichtabscheidung angewandt wird (siehe PVD und CVD), dann wird häufig ein "&D" (engl. ...and deposition) angehängt, also zum Beispiel PIII&D.