Diskussion:Fotolithografie (Halbleitertechnik)
Letzter Kommentar: vor 15 Jahren von Nikater in Abschnitt Fotolithografie in der Drucktechnik
Röntgenstrahlen
- "Bei der Verwendung von Röntgenstrahlen aus Quellen mit der nötigen Konvergenz (z. B. Synchrotronstrahlung) lassen sich theoretisch kleinere Strukturen herstellen bzw. das Verfahren besitzt eine erheblich größere Fokustiefe."
Ist die Fokustiefe die Schärfentiefe bzw. Tiefenschärfe? Dann bitte dorthin verlinken.
Ja, ist das selbe, Schärfentiefe heißt auf Englisch Depth Of Focus (DOF abgekürzt)
Cyberhofi
Fotolithografie in der Drucktechnik
In der Drucktechnik werden in diesem Verfahren Halbtonnegative auf beschichtete Steinplatten belichtet - Meines Wissens nach braucht man zum Drucken einen Raster, um Halbtöne zu erzeugen, oder wie ist dieser Satz zu verstehen? --Nikater 14:14, 1. Jul. 2009 (CEST)
- Wird dies nicht durch die nachfolgenden Sätze erklärt? --Cepheiden 15:00, 1. Jul. 2009 (CEST)
- Ich kann dort keine Erklärung erkennen. Auf jeden Fall kann man von einem auf den Stein kopierten Halbtonnegativ nicht drucken, das geht nur mit Hilfe des Rasters. Fotolithografie in der Drucktechnik ist außerdem etwas anderes, als es hier beschrieben wird. Ich habe hierzu ein Kapitel unter Lithografie verfasst. --Nikater 18:06, 1. Jul. 2009 (CEST)
- Mag sein, bin nur ein Laie was das angeht. Ich empfand die Beschreibung aber als okay. Die Information ist auch schon seit Ewigkeiten im Artikel [1]. Wenn du eh schon einen längen Abschnitt darüber erstellt hast, dann gestallte doch bitte den Abschnitt hier entsprechend um und verweise auf deinen Text. So kann Redundanz minimiert werden. --Cepheiden 20:52, 1. Jul. 2009 (CEST)
- Ich frage mich nur, ob man aus dem Lemma "Fotolithografie" nicht zwei getrennte Artikel machen sollte. Denn im Prinzip haben diese ja nichts miteinander zu tun. Zum Beispiel hat Fotolithografie (Halbleitertechnik) wohl keinen Bezug zu "Litho", also dem Stein. Oder siehst du das anders? --Nikater 22:06, 1. Jul. 2009 (CEST)
- Nein mit Steinen hat dies nichts zu tun. Stellst du dir unter Aufteilung vor zwei Artikel also Fotolithografie (Drucktechnik) und Fotolithografie (Halbleitertechnik) vor (Fotolithografie wird dann zur BKL), oder was genau? Nur eine Ausgliederung der Halbleitertechnik würde ich nicht gern sehen. Denn es ist der (einzige) Begriff für dieses Technik in der Halbleitertechnik (mit Ausnahme der Verkürzungen Lithographie und Litho) und macht den Hauptteil des Artikels aus. Prizipiell wäre ich erstmal dafür deinen Abschnitt zur Fotolithografie aus Lithographie hier zu integrieren. Soweit ich das überblicke läuft bei beiden Techniken die Strukturierung gleich ab (andere Materialien mal ausgenommen) --Cepheiden 08:09, 2. Jul. 2009 (CEST)
Ok. Genauso, wie du es hier beschreibst, habe ich mir das vorgestellt. Den Artikel "Fotolithografie (Halbleitertechnik)" werde ich nicht anrühren, mit Ausnahme der Umbenennung ;-) --Nikater 08:44, 2. Jul. 2009 (CEST)
- Ist denn nun auch deiner Meinung nach das Verfahren der Strukturierung gleich in beiden Techniken? Ich würde gern Redundanzen minimieren. --Cepheiden 09:30, 2. Jul. 2009 (CEST)
- Wenn ich das richtig verstanden habe, entspricht die Kontaktbelichtung dem Verfahren in der Drucktechnik. Was im Artikel fehlt, ist die Erklärung für die Bezeichnung "Fotolithografie". Warum dieser Ausdruck? --Nikater 13:11, 2. Jul. 2009 (CEST)
- kA, Fotolithografie bezeichnet halt analog zu Lithogrfie das strukturieren von Schichten (Fotolacke usw.) mittels Licht.Es ist ein Ableitung aufgrund der Ähnlichkeit der Verfahren, so wie man es häufiger mal in der Sprache antrifft. --Cepheiden 14:11, 2. Jul. 2009 (CEST)
- Danke für die Erklärung. War für mich etwas verwirrend, da ich vorher von diesem Verfahren noch nichts gehört hatte. Man lernt bekanntlich nie aus ;-). Ich verfasse jetzt zunächst mal den Artikel "Fotolithografie (Drucktechnik)" auf der Basis des Kapitels in der Lithografie. --Nikater 14:51, 2. Jul. 2009 (CEST)