Dotierung

Einbringung einer geringen Menge von Fremdatomen in Halbleiterkristalle

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Dieser Begriff wird in der Halbleiterei verwendet, um den Vorgang zu beschreiben, bei dem Fremdatome in eine Schicht eingebracht werden. Dies dient dazu, die Eigenschaften dieser Schicht (meistens die Leitfähigkeit) gezielt zu verändern. Typische Dotierstoffe für Silizium-Schichten sind:

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